薄膜沉 積 | 濺射系 統(tǒng) | 靶 | 濺射頻 率 (W) | 濺射壓 強 (Pa) | 濺射氣 體流量 比 | 襯底溫 度 (℃) | 靶間距 (cm) | 沉積速率 (A/min) |
ZnO | 射頻濺 射 | Zn | 200 | 0.37 | Ar: O2(1 :1) | 280 | 10 | 21.22 |
薄膜沉 積 | 濺射系 統(tǒng) | 靶 | 濺射頻 率 (W) | 濺射壓 強 (Pa) | 濺射氣 體流量 比 | 襯底溫 度 (℃) | 靶間距 (cm) | 退火溫 度 (℃) |
ZnO | 射頻濺 射 | Zn | 150 | 0.7 | Ar: O2(1 :2) | 350 | 10 | 800 |
組別 | 溫度 (℃) | 靶材 | 靶間距 | 功率 (W) | 生長速度 nm/min | 退火溫度 (℃) |
1 | 常溫 | ZnO | 10cm | 100 | 8 | 室溫 |
2 | 常溫 | ZnO | 10cm | 100 | 8 | 室溫 |
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